Produkte

Ons het 'n stikstof-gedoteerde nanokoolstof filmelektrode met 'n stikstofkonsentrasie van laer as 10.9 at% bestudeer wat deur die ongebalanseerde magnetron (UBM) sputtermetode gevorm word.Die sp(3)-inhoud in die stikstof-gedoteerde UBM sputterende nanokoolstoffilm (N-UBM-film) neem effens toe met toenemende stikstofkonsentrasie.Die stikstofbevattende grafietagtige binding neem af en piridienagtige binding neem toe met toenemende stikstofkonsentrasie.Die N-UBM-film het 'n baie gladde oppervlak met 'n gemiddelde grofheid van 0,1 tot 0,3 nm, wat byna onafhanklik is van stikstofkonsentrasie.Die N-UBM film elektrode toon 'n wyer potensiaal venster (4.1 V) as 'n suiwer-UBM film elektrode (3.9 V) as gevolg van sy geringe toename in die sp(3) inhoud.Die elektrokatalitiese aktiwiteit het toegeneem met toenemende stikstofkonsentrasie, wat daarop dui dat die elektroaktiwiteit maksimum is wanneer die stikstofkonsentrasie rondom 10.9 at% is, wat bevestig word deur die piekskeiding van Fe(CN)6(4-).Die waterstofperoksied (H2O2) reduksiepotensiale by die N-UBM film elektrode het ongeveer 0.1 V geskuif, en die piekstroom van H2O2 het ongeveer 4 keer toegeneem.